200系列光刻机 —— TFT曝光


SSB225

SSB245

SSB260

SSB200系列投影光刻机采用先进的投影光刻机平台技术,专用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造,可应用于2.5代~6代的TFT显示屏量产线。该系列设备具备高分辨率、高套刻精度等特性,支持6英寸掩模,显著降低用户使用成本。
   产品特征

● 高精度,分辨率可达1.5μm

● 支持小Mask,可用6英寸掩模实现12英寸屏幕制造

● 具备智能化校准及诊断功能,方便设备参数校调及用户周期性维护

   主要技术参数

型号

分辨率

套刻精度

基板尺寸

SSB225/10

2μm L/S

0.6μm

370mm×470mm
500mm×500mm

SSB225/20

1.5μm L/S

0.5μm

370mm×470mm
500mm×500mm

 SSB245/10 2μm L/S 0.6μm 730mm×920mm
 SSB245/20 1.5μm L/S 0.5μm 730mm×920mm
 SSB260/10T 2μm L/S 0.6μm 1300mm×1500mm
1500mm×1850mm
 SSB260/20T 1.5μm L/S 0.5μm 1300mm×1500mm
1500mm×1850mm

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